半導體酸性廢氣來源：
半導體產業中的酸性廢氣主要來源于清洗工序，其中使用的清洗劑溶劑中含有大量酸性廢氣，主要成分為硝酸，硫酸，氫氟酸等，在工藝過程中，這些大部分通過揮發成為廢氣排放。
半導體酸性廢氣處理方法：
堿液體二級噴淋法，又稱化學洗滌法。
因液體自身具有的溶解特性，可以更好地利用酸堿中和去除污染物，而達到大氣排放標準，故噴淋法是半導體行業酸堿廢氣治理普遍采用的主要處理方法。
半導體酸性廢氣處理工作原理：
通過設備直接連接將廢氣收集起來，在風機的作用下將廢氣源源不斷向凈化設備輸送，再經過通風管道的輸送作用，使廢氣輸送到系統的噴淋塔內，氣體在噴淋塔塔內經過堿性洗液的噴淋洗滌過程，廢氣中所含有的容易產生酸霧的氣體成份充分與堿性水霧接觸混合并且發生中和反應，并且形成較好的氣液兩相交和。經過噴淋后的水霧再在洗滌塔內的填料層內形成一個多孔接觸面較大的處理層，從而進一步對酸霧進行治理。
半導體酸性廢氣處理設備優點：
⑴半導體酸性廢氣處理設備工藝簡單，造價低，運行費用少，安裝方便，耐腐蝕；
⑵性能穩定，除塵效率高，脫硫效果好；
⑶重量輕，便于安裝、運輸及維修管理；
⑷特別適應水溶性含塵氣體；
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